会社沿革

1972(昭和47年) ハイメカニック工業(株)の製造部門をハイメカ工機として独立。
資本金500万円で米沢市内に設立。
1973(昭和48年) 資本金800万円に増資。工場増設を行う。

▲ボーリング指圧測定装置
1980(昭和55年) 資本金2,000万円に増資。
タンタルコンデンサ溶接機シリーズの開発に着手。
1981(昭和56年) 新社屋完成に伴い全面移転、機械設備の充実と大幅な生産能力増強を実施。
1983(昭和58年) チップタンタルコンデンサ製造ラインを開発。
1985(昭和60年) 資本金4,000万円に増資。
1988(昭和63年) 南陽市にハイメカヒューマンカレッジ(研修所)を完成。
1989(平成元年) 中国から技術研修生を迎える。
1991(平成3年) 北海道・東北地区を代表し、「社団法人・中小企業研究センター賞」受賞。
本社組立工場を増築完成。
高性能溶接電源「クリーンスポット」を開発・発売開始。
12月、くぼた診療所開設。
1992(平成4年) アルミVチップコンデンサー組立機「MAC-V21」を開発。
韓国から技術研修生を迎える。
重慶、成都に駐在員事務所開設。
1994(平成6年) チップタンタルコンデンサ超高速M/C「Σ-F」シリーズを開発。
合併会社、韓国ハイメカ(株)設立。
1997(平成9年) 筒型/角型リチウムイオンバッテリー製造装置開発。
1998(平成10年) 山形労働基準局より「快適職場推進事業場」の認定を受ける。
2000(平成12年) 積層アルミコンデンサ組立機「APC」シリーズ完成。
ISO 9000S(9001)認証登録。
山形県産業安全衛生大会において、「衛生部門優良賞」を受賞。
2001(平成13年) 国土交通省より「地域活性化貢献企業賞」を受賞。
山形県より「山形県産業賞」を受賞。
2002(平成14年) ISO 9001:2000年版登録。
2003(平成15年) 「FIS」(完全検査テーピング機)と「MAG」(高速多目的ハンドラー)を開発。
積層リチウムイオンバッテリー製造装置開発。
2004(平成16年) 山形県産業安全衛生大会において、「山形労働局長賞奨励賞」を受賞。
2005(平成17年) ICタグ製造装置開発。
2006(平成18年) 大容量キャパシタ自動積層装置開発。
経済産業省「明日の日本を支える元気なモノ作り中小企業300社」に選出。
2007(平成19年) 半導体ウェハ・ピック&テーピング機を開発。
2008(平成20年) きらやか銀行「きらやか産業賞」受賞。
ISO14001認証登録。
2009(平成21年) ハイメカ韓国事務所開設。
2010.10(平成22年) EMSをISO9001に統合。
2011.5(平成23年) 中国に青島ハイメカ機械有限公司を設立。
2014.5(平成26年) 創業40周年記念行事を実施。
   
 

 

ハイメカ株式会社

〒992-0003
山形県米沢市窪田町窪田
2534番地6
電話/0238-37-2905
FAX/0238-37-2904

営業日カレンダー[PDF]

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